• 日立高新離子研磨裝置IM4000
    日立高新離子研磨裝置IM4000

    日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!其高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間。(大加工率:硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。

    更新時間:2020-08-13瀏覽量:298
  • 日立高新磁控濺射器MC1000
    日立高新磁控濺射器MC1000

    日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極,能夠大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

    更新時間:2020-08-13瀏覽量:147
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