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日立高新離子研磨裝置IM4000

日立高新離子研磨裝置IM4000

更新時間:2020-08-13

廠商性質:代理商

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產品報價:

產品特點:日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!其高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間。(大加工率:硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。

詳細資料
品牌其他品牌價格區間面議
產地類別進口應用領域醫療衛生,食品,化工,建材,電子

日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!

日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的混合模式帶有兩種研磨配置:
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結構高分辨成像。
平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性

日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間。(大加工率:硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。

日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的可拆卸樣品臺裝置:為便于樣品設置和定義研磨邊緣,可將樣品臺裝置拆卸。
 

日立高新離子研磨裝置IM4000?特點

混合模式:兩種研磨配置
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性

高效:提高加工效率,與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設計,減少了橫截面研磨時間(大加工速度:硅材質為300 μm/h - 加工時間減少了66%)

可拆卸式樣品臺:為便于樣品設置和邊緣研磨,樣品臺設計為可拆卸型

規格

項目描述
斷面加工臺平面研磨臺
氣源氬氣(Ar)
加速電壓0-6Kv
大研磨速率﹡¹﹡²(硅材質)約300μm/h﹡¹﹡²

約20μm/h﹡³(點)

約2μm/h﹡?(面)

大樣品尺寸20(W)×12(D)×7(H)mmΦ50×25(H)mm
樣品移動范圍X±7mm,Y0-+3mmX0-+5mm
旋轉角度-1r/m,25r/m
擺動角度±15°,±30°,±40°±60°,±90°
傾斜-0-90°
氣體流量控制系統流量調節器
排氣系統渦輪分子泵(33L/S)+機械泵(50Hz時,135L/min,60Hz時,162L/min)
儀器外觀尺寸616(W)×705(D)×312(H)mm
儀器重量主機48kg+機械泵28Kg
可選附件光學顯微鏡(用于觀測研磨中的樣品)

﹡¹:此研磨速率是對研磨板邊緣處的硅材質的材料研磨至100μm粒度時所獲得的大深度值

﹡²:此研磨速率是對硅材質的材料進行研磨兩小時后獲得的平均值

﹡³:照射角度60°偏心值4mm

﹡?:照射角度0°偏心值0mm

 

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