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日立高新磁控濺射器MC1000

日立高新磁控濺射器MC1000

更新時間:2020-08-13

廠商性質:代理商

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產品報價:

產品特點:日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極,能夠大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

詳細資料
品牌其他品牌價格區間面議
產地類別進口應用領域醫療衛生,環保,化工,能源,電子

日立高新磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極,能夠大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的大樣品直徑:60 mm
日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的大樣品高度:20 mm
 

日立高新磁控濺射器MC1000特點:
采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件

規格:

項目說明
放電類型磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓大0.4Kv DC(直流可變)
電流大40mA DC

噴鍍速率(大)[條件]

壓力:7Pa

放電電流:40mA

標靶與樣品表面之間的距離:20mm

Pt靶(選配件)15nm/min
Pt-Pd靶(選配件)20nm/min
Au靶(選配件)35nm/min
Au-Pd靶(選配件)25nm/min
樣品尺寸大直徑Ф60mm
大高度20mm
機械泵135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
電源要求單相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m)
尺寸寬度450mm
長度391mm
高度390mm
重量主機:約25Kg 機械泵:約28kg

﹡¹:噴鍍速率僅供參考

﹡²:主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)

 

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